摄影劫——中国艺术家在第二届马德里摄影节

展    览：摄影劫——中国艺术家在第二届马德里摄影节
艺术家：董文胜、高世强、韩磊、蒋志、金石
策展人：许崇宝
展览日期：2010年5月29日—6月27日
展览地点：伊比利亚当代艺术中心B厅
展览地址：北京市朝阳区酒仙桥路4号798艺术区E06
 

出品人：高平、邱晨枫
馆    长：夏季风
艺术总监：左靖
项目总监：郭城
主    办：伊比利亚当代艺术中心      西班牙国际艺术文化基金会

展览主题：
    伊比利亚当代艺术中心将于2010年5月29日隆重推出董文胜、高世强、韩磊、蒋志、金石五位艺术家的影像作品展览“摄影劫——中国艺术家在第二届马德里摄影节”。
作为中国当代影像艺术创作领域最为活跃的一线艺术家，他们的作品持续地吸引着来自国内外的广泛关注与讨论，并受邀参加2010年第二届马德里摄影节。作为西班牙乃至欧洲最具公众影响力的当代摄影节，他们的入选意味着什么？我们如何看待和讨论摄影节？是形象工程？还是有内在体制化倾向的艺术展览形式？在很大程度上，摄影节在世界各地成为一种在地化的图像应对策略，艺术家以其生产的图像参与全球各地的摄影节展览，他们的作品维度与态度在多大程度上影响了不同社会形态语境中的图像阅读趣味的形成？
    以上几个问题引向本次展览主题“摄影劫Kalpastival of Photography”，以“劫Kalpa”代“节Festival”，在此“摄影劫”指向摄影本体，摄影节作为当代影像生产与流通机制的终端环节之一，如何在不同的社会、文化语境中选择并呈现影像作品？我们试图通过对五位艺术家作品的片断式研究触摸到当代摄影的某种本体属性及摄影节的相关问题。
    摄影节是一场图像的盛筵，也是一场摄影劫